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【物性分析】金相樣品磨拋平臺(tái)

時(shí)間:2022-01-07來(lái)源:趙云經(jīng)理

儀器簡(jiǎn)介

功能:實(shí)驗(yàn)室金相樣品的前處理。

1、試驗(yàn)樣品精密切割;

2、試驗(yàn)樣品鑲嵌;

3、可使樹(shù)脂和固化劑充分地填充樣品中的孔隙、裂紋、孔洞;

4、在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面;

5、試驗(yàn)樣品磨制和拋光。


優(yōu)勢(shì):操作簡(jiǎn)便、穩(wěn)定性高、自動(dòng)手動(dòng)操作兼顧。


主要技術(shù)參數(shù)

1、精密切割機(jī)切割能力:圓形樣品直徑最大50 mm;方形樣品最大150×50×13 mm;

2、全自動(dòng)熱鑲嵌機(jī):模具尺寸:25、 30、40、50 mm,1?"、1 ?"、1 "、2"供選;

3、真空滲透儀:高強(qiáng)度工程塑料制真空艙,內(nèi)置可以電動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)的工作平臺(tái),可用于12個(gè)30 mm試樣在真空環(huán)境下的澆注、浸透、粘接;

4、振動(dòng)拋光機(jī):拋光盤(pán)直徑為12英寸,可承載多至18個(gè)直徑30 mm的鑲嵌樣品或較大的無(wú)需鑲嵌的樣品;符合高質(zhì)量的背散射電子衍射分析(EBSD標(biāo)定率≥70%)樣品的表面拋光;

5、雙盤(pán)手自一體磨拋機(jī):卡持器可裝卡樣品尺寸為25 mm~40 mm直徑的鑲嵌樣品;制備好的樣品能夠滿(mǎn)足顯微分析工作的要求(最后一道拋光應(yīng)能達(dá)到0.02 μm或0.05 μm的氧化物拋光的效果)。


應(yīng)用領(lǐng)域

適用于實(shí)驗(yàn)室金相樣品的前處理等,主要應(yīng)用于材料、冶金、地質(zhì)等領(lǐng)域。


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